光刻机一分钟能做多少块芯片

光刻机一分钟可以生产约60到120块芯片，具体数量取决于设备类型和芯片尺寸。高端EUV光刻机每分钟能处理90片12英寸晶圆，而老一代DUV设备处理速度稍慢。生产7纳米芯片时，一台现代光刻机每小时能完成3000片晶圆的曝光工序。芯片制造过程中，光刻机需要精确控制紫外光或极紫外光的照射时间，确保电路图案准确转移到硅片上。每片晶圆可切割出数百个芯片，具体数量由芯片尺寸决定。

光刻机的工作效率受多种因素影响。设备性能方面，最新一代ASML NXT:1980Di光刻机每分钟能完成115次曝光，比上一代提高20。生产环境要求恒温恒湿，温度波动不能超过0.1摄氏度。光刻胶涂覆、烘烤、显影等工序时间也会影响整体速度。一条完整生产线通常需要10台光刻机协同工作，才能达到每月生产10万片晶圆的产能。