光刻工艺有前途吗

光刻工艺在半导体制造中占据核心地位，随着5G、人工智能和物联网的快速发展，对先进芯片的需求持续增长。7纳米以下工艺节点需要更精密的光刻技术，EUV光刻机已成为高端芯片制造的必备设备。全球芯片市场规模超过5000亿美元，光刻设备约占整个半导体设备市场的20%。台积电、三星等厂商持续投入巨资研发更先进的光刻技术，推动工艺节点不断突破。

光刻工艺正与其他技术融合创新，如多重曝光技术、计算光刻等，提高了成像精度和良率。新材料如极紫外光刻胶的开发解决了传统材料在纳米尺度下的局限性。中国在光刻领域的研发投入每年增长超过30%，专利申请数量位居世界前列。激光直写技术、电子束光刻等非传统光刻方法也在特定领域展现出独特优势，为光刻工艺开辟了新的发展路径。