真空镀膜机有哪几个系统类型

真空镀膜机主要包含真空系统、蒸发系统和控制系统三大核心部分。真空系统通过机械泵和分子泵组合工作，确保腔体内达到10^-5 Pa的真空度，防止镀膜过程中氧化。蒸发系统包括电子枪、电阻蒸发源和磁控溅射靶，不同材料选用不同蒸发方式，如铝膜常用电子枪蒸发，而ITO膜则采用磁控溅射。控制系统负责监控温度、真空度和膜厚，确保镀膜均匀性，现代设备还配备PLC自动控制功能，提高生产效率。

镀膜机还配置了冷却系统和气体供给系统。冷却系统采用水冷或风冷方式，防止设备过热，延长使用寿命。气体供给系统配备高纯度气体阀门和流量计，用于反应溅射时通入氩气或氧气，制备氧化膜或氮化膜。高端机型还配备膜厚监控仪，通过石英晶体振荡实时测量镀层厚度，确保产品一致性。这些系统协同工作，满足半导体、光学镀膜和装饰镀膜等多种工艺需求。