光刻机的技术核心部件是什么

光刻机的技术核心部件包括高精度光学系统、精密工作台和先进光源系统。光学系统由多组透镜和反射镜组成，确保光束精确聚焦。工作台采用纳米级定位技术，实现晶圆的精准移动。光源系统产生特定波长的紫外光或极紫外光，决定最小可印刷线宽。这些部件协同工作，确保芯片制造精度达到纳米级别。阿斯麦尔EUV光刻机包含超过10万个精密零件，每个部件都经过严格测试。

光刻机的另一关键核心是先进的光刻胶技术和精密控制系统。光刻胶材料对特定波长光敏感，经曝光后形成精确图案。控制系统包含数千个传感器，实时监测温度、振动和位置变化。冷却系统维持设备在恒定温度下运行，避免热膨胀影响精度。真空环境防止光线散射，提高成像质量。现代光刻机每天能处理数百片晶圆，每片晶圆上可容纳数百亿个晶体管，展现其卓越的精密制造能力。